第364章 全球領先：新一代光刻機

               　　“徐總……”

　　徐華盛來到一個實驗室內，看到徐華盛到來，姜漢文立刻笑了起來。

　　“姜主任……”

　　徐華盛點點頭，目光卻落在實驗室牆壁上掛著的一個巨大的又複雜無比的設計圖上了。

　　看著徐華盛的目光，姜漢文笑了起來。

　　“徐總，這就是我們華光電的第二款光刻機的設計圖紙。目前整個設計工作已經接近尾聲，其中的很多配套技術也已經突破了……”

　　姜漢文開始給徐華盛講解這個設計圖。

　　光刻機，姜漢文現在在華光電的主要項目就是研發光刻機。當第一代光刻機量產之後，姜漢文就已經展開第二代光刻機的研究了。

　　經過這麼長時間，姜漢文他們終於完成了第二代光刻機的設計工作，相關的配套技術也已經差不多突破了。

　　相對於華光電的第一代光刻機，第二代光刻機的更為先進，曝光精度更高。

　　“徐總，這款光刻機，曝光光源為96納米。如果採用二次曝光工藝，可以製作48納米的芯片……”

　　姜漢文最後介紹道。徐華盛點點頭，這個技術已經很厲害了。如此的曝光精度，領先國外差不多兩代了。

　　“大概什麼時候能量產？”

　　徐華盛直接問道。

　　“如果一切順利的話，需要兩年時間。這款光刻機更加複雜，技術也更高……”

　　姜漢文笑著說。

　　“嗯，不著急，穩著來……”

　　徐華盛眼裡帶著滿意，其實現在華夏對更加先進的光刻機的需求並不算太迫切。畢竟現在的光刻機就已經很厲害了，在這個時代已經夠用的了。

　　新一代光刻機量產後，可能也會先在軍方使用，讓軍方生產更先進的軍用芯片。至於民用的話並不迫切。現在的光刻機，生產2g手機芯片完全足夠了。

　　2g通訊時代現在才剛萌芽，整個2g通訊時代的週期怎麼也得十年八年的啊。在民用市場，技術的更新換代是根據市場需求來的，並不是說有了最先進的技術就必須趕緊拿出來用。